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我們的優(yōu)勢|離子束刻蝕

更新時間:2020-06-16      瀏覽次數(shù):2901

我們的優(yōu)勢|離子束刻蝕

NANO-MASTER的離子束刻蝕系統(tǒng)有很強的適應性,可以根據(jù)不同的應用建立不同的結(jié)構(gòu),不同的樣品臺和離子源配置可實現(xiàn)不同的應用范圍。系統(tǒng)中的樣品臺可實現(xiàn)正負90°傾斜、旋轉(zhuǎn)、水冷和背氦冷卻。NM成熟的技術(shù)可控制基片溫度在50℃以內(nèi)。通過傾斜和旋轉(zhuǎn),深溝可切成斜角,通過控制側(cè)壁輪廓和徑向可提高均勻性,不同的構(gòu)造不同的應用可選擇不同的選配項,也可增加濺射實現(xiàn)刻蝕之后的涂覆保護。應用十分廣泛。

NANO-MASTER的離子束刻蝕在行業(yè)中非常有競爭力,它憑什么可以這樣脫穎而出呢?

1. 計算機全自動工藝控制,具有高度的可重復性;

2. 菜單式設(shè)計,支持四級密碼授權(quán)訪問控制,支持不限數(shù)量的工藝程序,每一個工藝程序支持1-100個工藝步驟,操作方便;

3. 高均勻性刻蝕,6"片刻蝕均勻性優(yōu)于+/-3%;

4. 支持垂直刻蝕和斜齒刻蝕;

5. 分子泵與工藝腔體采用直連設(shè)計,具有z佳的真空傳導率,8小時可以達到6x10-7Torr的高工藝真空,15分鐘內(nèi)達到10-6Torr量級的真空;

6. 通過計算機控制分子泵的渦輪速度,直接調(diào)節(jié)分子泵的渦輪速度,從而實現(xiàn)下游壓力的全自動調(diào)節(jié),快速穩(wěn)定;

7. 刻蝕工藝優(yōu)化,防止被刻蝕的光刻膠被碳化而導致后續(xù)的去膠困難;

8. 緊湊型設(shè)計,節(jié)省占地空間,整個設(shè)備的主機占地面積僅26"x44";

9. 關(guān)鍵核心組件帶水冷保護,長期穩(wěn)定。

此外,NANO-MASTER鄭重承諾客戶,由我司出售的儀器均可獲得終身的售后維修服務和穩(wěn)定的零配件供應。為更高效、便捷地為您提供售后服務,我們在上海設(shè)立辦公處,NM售后服務工程師會竭誠為您提供優(yōu)質(zhì)、可靠的本地化服務。

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