MiniSIMS ToF是一款高性價比的TOF-SIMS飛行時間二次離子質譜儀，具有高通量分析功能，可用于絕緣、導電表面的成像分析與化學成分分析。MiniSIMS ToF是研究表面化學的理想選擇，適用于研發(fā)和工業(yè)質量控制應用。

TOF-SIMS飛行時間二次離子質譜儀主要通過離子源發(fā)射離子束濺射樣品表面進行分析。離子束作為一次離子源，經(jīng)過一次離子光學系統(tǒng)的聚焦和傳輸，到達樣品表面。樣品表面經(jīng)過濺射，產生二次離子，系統(tǒng)將產生的二次離子提取和聚焦，并將二次離子送入離子飛行系統(tǒng)。在離子飛行系統(tǒng)中，不同種類的二次離子由于質荷比不同，飛行速度也不同，在飛行系統(tǒng)分離，通過檢測這些離子進行相關分析。

MiniSIMS——屢獲殊榮的臺式二次離子質譜儀（SIMS）表面化學分析系統(tǒng)
賽恩斯（SAI）公司創(chuàng)新研發(fā)的MiniSIMS儀器榮獲歐洲及美國多項殊榮，其中包括R&D100獎。該臺式設備對實驗室空間和配套設施要求極低，卻可全面支持靜態(tài)二次離子質譜（Static SIMS）、成像二次離子質譜（Imaging SIMS）以及動態(tài)（深度剖面）二次離子質譜（Dynamic SIMS）三種工作模式。結合其高通量分析能力，相較于傳統(tǒng)的超高真空SIMS設備，單個樣品的檢測成本最*高可降低90%。憑借較低的單樣品分析成本，該系統(tǒng)非常適用于對少量元素及有機表面成分進行常規(guī)檢測，是工業(yè)質量控制應用的理想解決方案。

MiniSIMS 非常適合用于進行表面污染的常規(guī)中期檢查，以便在進行后續(xù)昂貴的加工步驟之前，將有缺陷的物品撤出。例如，如果要對某個表面進行涂漆或與其他材料粘合，其清潔度對于涂層質量或粘合強度至關重要。在界面和表面研究中，分析不能被底層材料的信號所淹沒，這就要求所用技術的采樣深度足夠小，以排除這些信號。二次離子質譜（SIMS）是所有表面分析技術中采樣深度最小的技術之一，因此特別適合分析通常覆蓋在預期純凈材料表面的極薄污染層。

SIMS 不僅能夠識別無機和元素污染物，而且與許多其他分析技術不同，它還能對可能存在的任何有機污染物進行詳細分析。

MiniSIMS ToF儀器特點：

• 全面支持靜態(tài)二次離子質譜、成像二次離子質譜以及動態(tài)（深度剖面）二次離子質譜；
  

• 具備表面成像和深度剖析功能；

• 提供的SIMS材料譜庫包含上千種材料的質譜數(shù)據(jù)，可識別未知的化合物和材料；

• 可同時分析所有元素及有機物，可消除有機物和元素干擾，使譜圖更清晰，檢測限更低，能更有效地分析材料樣品。

• 專用數(shù)據(jù)處理軟件允許分析數(shù)據(jù)和樣品的化學構成信息進行全面的交互提取，其所有儲存的數(shù)據(jù)都能用于溯源性分析。

MiniSIMS ToF應用領域:

• 表面涂層和處理
  

• 電子元件和半導體
  

• 電極與傳感器
  

• 潤滑劑
  

• 催化劑
  

• 粘合劑
  

• 薄膜等包裝材料
  

• 腐蝕研究
  

• 大學教學與科研